真空镀膜设备_磁控溅射镀膜设备技术应用
蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机，主要适用于塑料、陶瓷、玻璃金属材料表面镀制金属化装饰膜。由于镀膜室为立式容器，所以它具有卧式镀膜机的一切优点，又利于自重较大的、易碎的镀件装卡，更可方便地实现自动生产线，是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。本机镀部分产品可不做底油。
真空镀膜设备机主要特点配用改进型高真空排气系统，抽速快、效率高、节电、降噪和延长泵使用寿命;实现蒸发、磁控溅射、自动控制，操作简单，工作可靠;蒸发镀应用新型电极引入装置，接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛，各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车，操作方便。
(或双门蒸发、磁控两用机)至成真空科技业务范围真空镀膜成套设备与技术，真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件，真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。
真空镀膜设备故障诊断与排除、老产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究，咨询服务。新技术、新设备、新工艺至成真空科技新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，配用改进型高真空抽气系统及全自动控制系统，抽速快、效率高、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。
真空镀膜的膜层厚度如何测量？
在使用真空镀膜机镀膜之后，为了需要可能会要测量膜层的厚度，测量膜层的厚度用什么方法呢?
***直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM)，这种仪器可以直接驱动蒸发源，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。
只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精准度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
此外虽然QCM在较低温度下非常稳定，但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。
光学监控是高精密镀膜的的优选监控方式，这是因为它可以更精准地控制膜层厚度(如果运用得当)。
精准度的改进源于很多因素，但***根本的原因是对光学厚度的监控。
光学镀膜机电子枪打火问题是怎么引起的,该如何减少次数呢?
很多人对光学镀膜机电子枪打火问题很疑惑，不知道是什么原因产生的，也不知道该如何减少这种情况的发生，今天至成真空小编为大家讲解一下光学镀膜机电子枪打火问题是怎么引起的？
电子枪在蒸镀时，由于电子束中的电子与气体分子和蒸发材料的蒸汽发生碰撞产生的离子轰击带负电高压电极及其引线，即产生打火。另外，若这些带负高压电的部分有尘粒等杂物，会使该处电场集中了容易打火。故电子束蒸镀设备的高压电源都附有高压自动灭弧复位装置，在打火非常严重时才会自动切断高压，然后又自动***，切断与***的时间愈短，愈不会影响蒸镀工艺。
那么，在安装和使用的过程中，该如何才能减少打火次数。首先、高压引线应尽量短，并用接地良好的不锈钢板屏蔽住，不要追求美观把引线弯来弯去。然后，枪头金属件和引线定期用细砂纸打光，然后清洗干净。上螺钉的螺孔定期用丝锥攻螺孔，以便螺钉上下方便并保证压的很紧。接着，所有陶瓷件污染后应予更换。电子枪体应可靠接地。对放气量大的材料应充分预热以彻底除气。蒸镀时功率要合适，不可过高造成材料飞溅。高压馈线与高压绝缘子金属件的接线一定要可靠并经常检查，以免增大接触电阻造成发热而烧坏。蒸发档板应高于蒸发源70mm.1
