吸尘器不锈钢网片的物理化学机械特性
①热膨胀系数：因温度变化而引起物质量度元素的变化。膨胀系数是膨胀－温度曲线的斜率，瞬时膨胀系数是特定温度下的斜率，两个温度之间的平均斜率是平均热膨胀系数。膨胀系数可以用体积或者是长度表示，通常是用长度表示。
②密度：物质的密度是该物质单位体积的质量，单位是kg/m3或1b/in3。
③弹性模量：当施加力于单位长度棱住的两端能引起物体在长度上的单位变化时，单位面积上所需的力称为弹性模量。单位为1b/in3或N/m3。
④电阻率：在单位长度立方体材料的两对面之间测量的电阻，单位用Ω?m，μΩ?cm或（已废的）Ω/(circularmil.ft)来表示。
⑤磁导率：无量纲系数，表示物质易被磁化的程度，是磁感应强度与磁场强度之比。
⑥不锈钢熔化温度范围：确定合金开始凝固和凝固完了的温度。
兴之扬蚀刻不锈钢网片小编来向大家说说电浆干法蚀刻中的基本物理及化学现象：
在干法蚀刻中，随着制程参数及电浆状态的改变，可以区分为两种极端的性质的蚀刻方式，即纯物理性蚀刻与纯化学反应性蚀刻。纯物理性蚀刻可视为一种物理溅镀(Sputter)方式，它是利用辉光放电，将气体如Ar，解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，溅击在被蚀刻物的表面，而将被蚀刻物质原子击出。此过程乃完全利用物理上能量的转移，故谓之物理性蚀刻。其特色为离子撞击拥有很好的方向性，可获得接近垂直的蚀刻轮廓。但缺点是由于离子是以撞击的方式达到蚀刻的目的，因此光阻与待蚀刻材料两者将同时遭受蚀刻，造成对屏蔽物质的蚀刻选择比变差，同时蚀刻终点必须精准掌控，因为以离子撞击方式蚀刻对于底层物质的选择比很低。且被击出的物质往往非挥发性物质，而这些物质容易再度沉积至被蚀刻物薄膜的表面或侧壁。加上蚀刻效率偏低，因此，以纯物理性蚀刻方式在集成电路制造过程中很少被用到。
纯化学反应性蚀刻，则是利用电浆产生化学活性极强的原(分)子团，此原(分)子团扩散至待蚀刻物质的表面，并与待蚀刻物质反应产生挥发性之反应生成物，并被真空设备抽离反应腔。因此种反应完全利用化学反应来达成，故谓之化学反应性蚀刻。此种蚀刻方式相近于湿式蚀刻，只是反应物及产物的状态由液态改变为气态，并利用电浆来促进蚀刻的速率。因此纯化学反应性蚀刻拥有类似于湿式蚀刻的优点及缺点，即高选择比及等向性蚀刻。在半导体制程中纯化学反应性蚀刻应用的情况通常为不需做图形转换的步骤，如光阻的去除等。
蚀刻不锈钢带中的1/2H,1/4H是什么意思？
一般带材或称卷材，宽度20-610mm,可根据客户需要进行分条处理，***窄宽度可分为5mm，我们蚀刻加工的不锈钢带在300宽以上或***少需要达到150mm较好。这主要是针对平面蚀刻工艺。
蚀刻不锈钢带表面分为好几种：亮面(BA)，雾面(2B)，镜面(8K)，拉丝(HL)CSP；蚀刻不锈钢带硬度：不锈钢带，一般分为软态，半硬，中硬，特硬四种；1/2H冷扎硬化不锈钢带的硬度HV要310以上，3/4H的HV要370以上，H的硬度要430以上；
蚀刻不锈钢带料硬度为130度，此材料为深拉伸材料，延伸率可达50%以上，1/4H硬度为180度以上；所以，针对不同的材料，所使用的硬度，要求等等都是不同的。也直接影响到***终产品的性质和品质。
