DE1-苏州东尚电子-AA104XG02-DE1生产

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龙腾M121GNS3 R0

为实现大面积高解析度的液晶显示，通常需要采用低阻抗金属材料、高性能开关元件以及高精细加工技术等手段。在低阻抗金属制作 TFT 总线上，目前研究和使用较多的材料是铝。通过围绕解决铝易形成小丘、化学腐蚀以及氧化等问题，先后报道了合金法 （如 Al- Cu、Al- Si、Al- Nd以及 Al- Ti 等） 和夹层法 （如 Mo/Al/Mo、Cr/Al/Cr以及 Ti/Al/Ti 等），合金法在工艺上相对比较简单，但材料的电阻率较高 。1998 年5 月，IBM 利用Al- Nd 合金作为栅电极，AA104XG02-DE1销售，开发出 16 . 3 英寸超高解析度（200ppi）a- Si TFT 显示器，并已实现批量生产 。1999 年4月， 东 芝 推 出 的 20.8 英寸16- SVGA（3 ， 200 ×2 ，AA104XG02-DE1厂家， 400）a- Si TFT- LCD，AA104XG02-DE1生产，可谓是代表了 a- Si TFT- LCD 在高解析度和高容量方面的***i高水平。

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液晶显示屏，英文简称为LCD全称是Liquid Crystal Display，是属于平面显示器的一种。用于电视机及计算机的屏幕显示。该显示屏的优点是耗电量低、体积小、辐射低。液晶显示屏使用了两片极化材料中的液体水晶溶液，使电流通过该液体时会使水晶重新排列达到成像的目的。

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TFT 生产技术***为核心的部分是光刻工艺，它既是决定产品品质的重要环节，也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中，***受人们关注的就是掩模版，其质量在很大程度上决定了TFT- LCD 的品质，而其使用数量的减少可有效削减设备***、缩短生产周期。随着 TFT 结构的变化和生产工艺的改进，AA104XG02-DE1，其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见，TFT 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺，大大地缩减了 TFT- LCD 生产周期和生产成本。