沈阳真空设备-天成【开拓进取】-沈阳真空设备采购

磁控溅射设备的主要用途：

各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。

时沿装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，沈阳真空设备价格，而且可以获得面积非常均匀的薄膜。

在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

离子泵是膜运输蛋白之一。也看作一类特殊的载体蛋白，沈阳真空设备报价，能驱使特定的离子逆电化学梯度穿过质膜，同时消耗ATP形成的能源，沈阳真空设备采购，属于主动运输。离子泵本质是受外能驱动的可逆性ATP酶。外能可以是电化学梯度能、光能等。被活化的离子泵水解ATP，与水解产物磷酸根结合后自身发生变构，从而将离子由低浓度转运到高浓度处，这样ATP的化学能转变成离子的电化学梯度能。目前已知的离子泵有多种，每种离子泵只转运专一的离子。细胞内离子泵主要有钠钾泵、钙泵和质子泵。

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