PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理
厂家在采购PVD真空镀膜机时，商家都会培训PVD真空镀膜机的相关知识，如镀膜技术工艺步骤、原理、***维护方法，机器的运行注意事项等等，今天至成小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。
PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤，分为以下四个步骤：
（1）清洗工件：接通直流电源，Ar气进行辉光放电为Ar离子，Ar离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
（2）镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
（3）镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件；
（4）镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
如果是镀离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。
光学真空镀膜机清洗和***方法
光学薄膜在我们的生活中无处不在，从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说，平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。光学镀膜技术以及普及到人们生活方方面面，因此光学真空镀膜机也是大家目前非常关注的话题。今天至成真空小编为大家介绍一下光学真空镀膜机在平时运行的时候该如何清洗和***问题，希望能让大家对光学真空镀膜机多一些了解。
首先我们来介绍一下光绪真空镀膜机的清洗问题：设备使用一个星期后，因镀料除镀在工件表面外，亦因无定向性而工作室内的衬板上镀料，并越镀越厚，该层膜厚因***、繞疏松，吸收大量气体而造成真空镀膜设备抽气越来越慢。此时，应对工作室及衬板进行清洗，如不必要拆落来的部件，可用砂纸打磨干净。
因此，衬板必须烘干水份才能安装，烘干前，衬板的水分尽量抹干，工作架等部件用砂纸清洁后，需要把真空室的所有灰尘清理干净，此可用吸尘器吸干净灰尘。***后安装衬板时，真空室及衬板都需要用酒精控拭干净。如使用电子枪及离子源辅助镀膜，可能会造成清洁困难，可使用喷沙等方法来清洁。
真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法
真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法，所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内，真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
多弧离子镀膜的方法，在条件下成膜有很多优点，可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。催化液和传统处理工艺相比，在技术上有哪些创新？
1、多弧离子镀膜不用电、降低了成本、成本仅为多弧离子镀膜镍的二分之一，真空镀膜机多弧离子镀膜铬的三分之一，不锈钢的四分之一，可反复利用，大大降低了成本。
2、多弧离子镀膜易操作、工艺简单、把金属基件浸入兑好的液体中“一泡即成”，需要再加工时不经任何处理。
