稀土化合物材料
中诺新材可以提供多种高纯稀土化合物材料，满足您在不同实验条件下的使用需求。
常用稀土化合物如下：
氧化钪 Sc2O399.99氧化钆 Gd2O399.99
氧化钇 Y2O399.99氧化铽 Tb2O399.95
氧化镧 La2O399.999氧化镝 Dy2O399.99
氧化钬 Ho2O399.99
氧化镨 Pr6O1199.9氧化铒 Er3O399.99
氧化钕 Nd2O399.9氧化铥 Tm2O399.99
氧化钐 ***2O399.99氧化镱 Yb2O399.99
氧化铕 Eu2O399.99氧化镥 Lu2O399.99
供货状态：
粉末：3-5um 300目，部分可以提供纳米粉
靶材：可定制各种尺寸稀土化合物靶材
颗粒： 1-3mm，压片状等
高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。
1、粉末冶金法：指钨粉经过成形后，加热到其熔点下的某个温度，通过物质迁移完成致密化的过程，***终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。
2、熔炼法：指将钨原料加热到其熔点以上形成液相，高纯铝靶材生产制造厂家，去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程，根据所采用的手段不同，具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。
3、化学气相沉积：指以钨化合物气体（一般为WF6）为钨源，在一定温度下被H2还原，高纯铝靶材 铝靶材 铝靶，将生成的钨沉积在特定的基底上，高纯铝，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯（或者制品）的过程。
中诺新材研发介绍：
1. 研发种类：各种比例的金属合金、各种比例的陶瓷化合物掺杂、二元混合，三元混合，四元混合等多元混合材料。
2. 研发材料规格：靶材（圆靶 平面靶 旋转靶 异形靶）、颗粒、圆柱、丝、棒、粉末、锭块，可根据客户要求。
3，研发设备：
1. 真空中、高频熔炼炉
2. 真空悬浮熔炼炉
3. 真空电弧熔炼炉
4. 真空热压炉
5. 真空烧结炉
6. 气氛烧结炉
7. 区熔提纯设备
8. 真空蒸馏设备
9. 进口***机械加工设备
高纯铝-高纯铝靶材 铝靶材 铝靶-中诺新材(优质商家)由中诺新材（北京）科技有限公司提供。中诺新材（北京）科技有限公司（）位于北京市海淀区上地东路25号3层8单元319。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前中诺新材在其它中享有良好的声誉。中诺新材取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。中诺新材全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。同时本公司（www.8..cn）还是从事高纯铜靶材，高纯铜，铜靶材的厂家，欢迎来电咨询。
