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北京创世威纳科技有限公司

普通会员6
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
联系卖家:苏经理
手机号码:13146848685
公司官网:www.weinaworld.com.cn
企业地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层
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企业概况

北京创世威纳科技有限公司成立于2008年,现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层,拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区,现在我们更专注于真空等离子体技术,成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。公司通过了ISO质量管理体系认证,获批高新技术企业,拥有4项发明专利......

自动磁控溅射镀膜机生产厂家-创世威纳(推荐商家)

产品编号:1169114613                    更新时间:2020-01-08
价格: 来电议定
北京创世威纳科技有限公司

北京创世威纳科技有限公司

  • 主营业务:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
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产品详情






磁控溅射中靶zhong毒是怎么回事,一般的影响因素是什么?

靶zhong毒现象

(1)正离子堆积:靶zhong毒时,靶面形成一层绝缘膜,正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡,不能直接进入阴极靶面,而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电---打弧,使阴极溅射无法进行下去。(2)阳极消失:靶zhong毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。

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磁控溅射镀膜仪应用广泛

目前我国磁控溅射镀膜仪市场销售非常火热,自动磁控溅射镀膜机生产厂家,这是一项热门的新技术,它带给企业和厂家的不仅仅是技术,还能够节省大量的人工运作成本,因此深受广大用户的青睐。

磁控溅射镀膜设备可制备多种薄膜,不同功能的薄膜,还可沉积组分混合的混合物、化合物薄膜;磁控溅射等离子体阻抗低,自动磁控溅射镀膜机,从而导致了高放电电流,在约500V的电压下放电电流可从1A 到100A(取决于阴极的长度);成膜速率高,沉积速率变化范围可从1nm/s到10nm/s;成膜的一致性好,甚至是在数米长的阴极溅射的情况下,仍能保证膜层的一致性;基板温升低;溅射出来的粒子能量约为几十电子伏特,成膜较为致密,且膜基结合较好。

磁控溅射镀膜设备得以广泛的应用是因为该技术的特点所决定的,其特点可归纳为:可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料,包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷、聚合物等物质。

另外磁控溅射调节参数则可调谐薄膜性能,尤其适合大面积镀膜,沉积面积大膜层比较均匀。

近年来,自动磁控溅射镀膜机品牌,磁控溅射镀膜设备在我国愈发的流行,从侧面反映出了我国工业发展十分迅速,今后设备取代人工的可能性是非常巨大的。

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磁控溅射镀膜机

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ITO 薄膜的磁控溅射靶主要分为InSn 合金靶、In2O3-SnO2 陶瓷靶两类。在用合金靶制备ITO 薄膜时,自动磁控溅射镀膜机供应商,由于溅射过程中作为反应气体的氧会和靶发生很强的电化学反应,靶面覆盖一层化合物,使溅射蚀损区域缩得很小(俗称“靶zhong毒”) ,以至很难用直流溅射的方法稳定地制备出优质的ITO 膜。也就是说,采用合金靶磁控溅射时,工艺参数的窗口很窄且极不稳定。陶瓷靶因能***溅射过程中氧的选择性溅射,能稳定地将金属铟和锡与氧的反应物按所需的化学配比稳定地成膜,故无zhong毒现象,工艺窗口宽,稳定性好。但这不等于说陶瓷靶解决了所有的问题,其薄膜光电性能仍然受制于基底温度、溅射电压、氧含量等主要工艺参数的影响,不同工艺制备出的ITO 薄膜的光电性能相差甚远。因此,开展ITO陶瓷靶磁控溅射工艺参数的优化研究很有意义。











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