真空镀膜机镀铝时,应该注意哪些事项
用真空镀膜设备镀铝膜，基本工艺流程为：预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。预真空对镀膜室抽真空至5×10，2Pa时，充入Ar气430mL，利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用，轰击时间为150s;镀铝部分蒸发器快速升至高温，铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多;采用二次离子轰击，去除膜表面粒状颗粒，使膜层更加致密，轰击时间为80s;镀保护膜时间为(200amp;plu***n;50)s，真空度为3amp;times;10?2Pa，由充入的硅油流量加少量Ar气来控制真空度，硅油流量由调节阀控制，直至放气结束。
真空镀膜与光学镀膜的区别
1、真空镀膜是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术。而光学镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
2、真空镀膜是真空应用领域的，而光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。
光学薄膜的定义
由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束一类光学介质材料，光学薄膜的应用始于20世纪30年代，光学薄膜已经广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。制备条要求件高而精。
光学薄膜的定义是：涉及光在传播路径过程中，附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层，通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性，以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或偏振分离等各特殊形态的光。
光学薄膜在我们的生活中无处不在，从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说，平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。
光学薄膜系指在光学元件或***基板上，制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合，以改变光波之传递特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。
一般来说，光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺。所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜，就是以干式涂布方式制造的产品。但是在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。
