







金属首饰真空镀膜机特点:
1、磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论,扩大在阴极表面磁场接近工件表面,以增加溅射原子的电离率。它保留了磁控溅射的细腻和光泽度增加。2、电弧等离子体蒸发源性能可靠,能够根据工作电流30A时,优化阴极和磁场结构涂层,涂膜和基材界面产生原子扩散,再加上离子束辅助功能沉积。
应用行业:设备被广泛应用于IPG的时钟,IPS手表和钟表,的IP,手机外壳,五金,洁具,刀具,防摩擦的工具,模具和模具等,它可以制备TiN,TiCN涂层,氮化TIALN,TiNbu,TiCrN,氮化锆,各类钻石薄膜(DLC)。
蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?
电镀设备真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染,消除空间碰撞,提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
为了提高镀层厚度的均匀性,真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置,如用行星运动方式,这种运动方式成膜均匀性好,台阶覆盖性能良好,镀件装载量大,可以充分利用真空镀膜室的有效空间,是目前经常采用的运动方式。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。
真空镀膜机厂家为你介绍真空镀膜技术在手机上的应用
现在基本上每人都配置一部手机了,但使用手机不可避免的会发生辐射。手机辐射会引发、,还能影响少年儿童的生长发育,严重的甚至会引发。如何减轻手机辐射对***健康的影响,已成为摆在我们面前的一个急需解决的问题。
真空镀膜技术,目前可以较好地解决这个难题。它是在原子水平上进行材料生成的技术,属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层,可以大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。
真空镀膜技术在手机上的应用,不仅推动了手机制造业的发展,也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽,好的保护了人们的健康。
