真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法
真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法，所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内，真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
多弧离子镀膜的方法，在条件下成膜有很多优点，可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。催化液和传统处理工艺相比，在技术上有哪些创新？
1、多弧离子镀膜不用电、降低了成本、成本仅为多弧离子镀膜镍的二分之一，真空镀膜机多弧离子镀膜铬的三分之一，不锈钢的四分之一，可反复利用，大大降低了成本。
2、多弧离子镀膜易操作、工艺简单、把金属基件浸入兑好的液体中“一泡即成”，需要再加工时不经任何处理。
真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程：
1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，随后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；
2、抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；
3、加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150℃~200℃之间；
4、Ar气分压，一般选择在0.01~1Pa范围内，以满足辉光放电的气压条件；
5、预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量；
6、溅射，Ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；
7、退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。
真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点：薄膜纯度高，致密，厚度均匀可控制，工艺重复性比较好，附着力强。
依据溅射源的不同，真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分，两者的主要区别在于气体放电方式不同，真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电，陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。
光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点：
一、渐变折射率结构薄膜技术与装备：
渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate***面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除
了薄膜界面特征，(部分)消除界面效应，如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力学稳定性。
二、磁控溅射光学镀膜系统
以LeyboldHelios和ShincronRAS为代表，磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。
三、间歇式直接光控：
间歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系统为代表，光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。
