真空镀膜技术的优点分析
真空镀膜技术优点表现在哪里？真空镀膜技术在塑料制品上的应用***广泛，真空镀膜机厂表示，塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用。通过真空镀膜技术的应用，使塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，大大提高了它的物理、化学性能。真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面：
1、使塑料表面有导电性；
2、容易清洗，不吸尘。
3、改善美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；
4、减少吸水率，镀膜次数愈多，孔愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性；
5、改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜技术，硬度及耐磨性大大增加；
6、可以提高耐候性，一般塑料在室外会老化的非常快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射强，所以耐候性大大提高。
真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程：
1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，随后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；
2、抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；
3、加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150℃~200℃之间；
4、Ar气分压，一般选择在0.01~1Pa范围内，以满足辉光放电的气压条件；
5、预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量；
6、溅射，Ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；
7、退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。
真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点：薄膜纯度高，致密，厚度均匀可控制，工艺重复性比较好，附着力强。
依据溅射源的不同，真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分，两者的主要区别在于气体放电方式不同，真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电，陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。
光学真空镀膜机薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为哪些膜
光学真空镀膜机薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为：反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等。
光学真空镀膜机光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的;可以是透明介质，也可以是吸收介质;可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，起表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫反射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各种向异性;膜层具有复杂的时间效应。
