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吸附的平衡压力比相同温度下的蒸气压力低得多。如在 20K时氢的蒸气压力等于大气压力，用 20K的活性炭吸氢时吸附平衡压力则低于10-8 帕。这样就可能在较高温度下通过低温吸附来进行抽气。③低温捕集：在抽气温度下不能冷凝的气体分子，沈阳真空设备采购，被不断增长的可冷凝气体层埋葬和吸附。一般说来，泵的极限压力就是冷板温度下的被冷凝气体的蒸气压力。温度为120K时，沈阳真空设备生产商，水的蒸气压已低于10-8帕。

磁控溅射镀膜的特点：

磁控溅射镀膜技术通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，使其能与***气充分的碰撞，沈阳真空设备，电离出更多的Ar 轰击靶材，从而提高了溅射速率；受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时，才沉积到基片上，避免了基片的温度上升。

这就造就了磁控溅射的两大优点：溅射速率高，基片温度低。另外，通过磁控溅射工艺得到的薄膜与基片的附着力强，薄膜的牢固度很强。

为了减少液氦消耗，液氦容器的外壁采用双层保温壁并在其间抽成真空。当泵被预抽到10-6帕压力时灌入液氮和液氦，气体凝结在4.2K的工作冷板上。经预抽使氦氢分压到10-12帕数量级，故泵可获得10-11帕以下的极限压力。如果把液氦容器抽真空减压到6650帕，液氦温度可降到2.3K，则可得到更低的极限压力。