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电阻蒸发镀膜机介绍

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史***悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备。

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Parylene裂解仪

Parylene用独特的真空气相沉积工艺（CVD技术）制备，由活性小分子在基材表面"生长"出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称"无孔不入"可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，甚至被业内称为当今世界的防潮、防霉（零级）、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。Parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上，尤其还具有良好的生物兼容性，生物稳定性，并有优异的自润滑性，涂层均匀可控性，以及好的物理机械性能。

1.一腔体，采用SUS304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm，腔体设有观景窗， 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。

2. 旋转平台，可承载重量: 20公斤，旋转速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦，抽气速度 ≧ 200L/min ; 压力 ≦ 5*10-3Torr。

4. 控制系统，采用具PID功能之温控模块及高精度温度传感器，深圳钙钛矿镀膜设备，系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作，并可储存与选择Recipe 。

5. 附属冷凝机，钙钛矿镀膜设备，温度 ≦ -90℃

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ZF500有机蒸发镀膜机

广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； ***真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，钙钛矿镀膜设备批发，尺寸350× 400mm

样品台：尺寸为4英寸4平面样品；

有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；

样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）

4套挡板系统：动密封手动控制；

样品挡板（１套），钙钛矿镀膜设备厂家，磁力拨叉，

膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

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