钙钛矿镀膜设备-钙钛矿镀膜设备定做-沈阳鹏程(诚信商家)

小方分子提纯设备　　

主要用途：　　

用来生长有机材料提纯的研究工作。　　

系统组成:　　该类设备为单室结构。　　

技术指标：　　

极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；　　

系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。　　

镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，钙钛矿镀膜设备公司，石英材料，钙钛矿镀膜设备定做，圆柱形结构。　　

抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；　　

样品可加热，加热温度为：200-600℃；

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统　　

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ZF300热蒸发镀膜机

ZF300热蒸发镀膜机是专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，钙钛矿镀膜设备多少钱，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的真空室结构。两组/三组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。

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钙钛矿镀膜机的特点有哪些？

1、样品位于真空室上方，钙钛矿镀膜设备，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。

2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度为≤180℃。

3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

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