钙钛矿镀膜设备
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设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，电阻热蒸发真空镀膜机价格，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成：该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室：方形前后开门结构，电阻热蒸发真空镀膜机生产厂家，内带有防污板。
2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；
3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套
4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。
6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?
双靶磁控溅射镀膜仪
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，电阻热蒸发真空镀膜机厂家，用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
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ZF500有机蒸发镀膜机
广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； ***真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4
真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm
样品台：尺寸为4英寸4平面样品；
有机束源炉：数量：4支，电阻热蒸发真空镀膜机，标准型600度控温；
样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）
4套挡板系统：动密封手动控制；
样品挡板（１套），磁力拨叉，
膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
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