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韦氏纳米系统（深圳）有限公司

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First-NanoSystemGmbH2003年创立于德国德累斯顿工业大学（DresdenUniversityofTechnology）2008年香港成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司2015年上海成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司中国代表处，负责中国区业务2018年深圳正式成立韦氏纳米系统（......

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PECVD沉积

产品编号：121622424 更新时间：2018-09-17

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韦氏纳米系统（深圳）有限公司

主营业务：光学透镜和仪器，实验室器具，专用仪器仪表，电化学设备和部件
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产品详情

PECVD沉积 Minilock-Orion III是一套******的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
Minilock-Orion III用于***/发火PECVD工艺。沉积薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体：100%***、氨、TEOS、二******、氧化亚氮、氧、氮、***基***和***。
该系统可选配一个三极管（Triode）或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子，从而控制薄膜应力。
基片通过预真空室装入工艺室，其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触，从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下，从而保持反应室与大气隔绝。

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地址：主营产品：光学透镜和仪器，实验室器具，专用仪器仪表，电化学设备和部件

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