光刻胶组分及功能
光引发剂
光引发剂吸收光能（辐射能）后经激发生成活性中间体，并进一步引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。
树脂
光刻胶的基本骨架，是其中占比较大的组分，主要决定***后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、***前后对溶剂溶解度的变化程度、光学性能、耐老化性、耐蚀刻性、热稳定性等。
溶剂
溶解各组分，是后续聚合反应的介质，另外可调节成膜。
单体
含有可聚合官能团的小分子， 光刻胶 生产厂家 ，也称之为活性稀释剂，一般参加光固化反应，可降低光固化体系粘度并调节光固化材料的各种性能。
NR9-3000PY
四、对准（Alignment）
光刻对准技术是***前一个重要步骤作为光刻的三大核心技术之一，一般要求对准精度为***细线宽尺寸的 1/7---1/10。随着光刻分辨力的提高 ，对准精度要求也越来越高 ，例如针对 45am线宽尺寸 ，对准精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推动 ，光刻胶，对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 ，对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ，包括视频图像对准、双目显微镜对准等， 光刻胶 日本 ，一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号上分 ， 光刻胶 负胶 ，主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。
正胶PR1-2000A1技术资料
正胶PR1-2000A1是为***波长为365 或者436纳米，可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。PR1-2000A1可以满足对附着能力较高的要求，在使用PR1-2000A1时一般不需要增粘剂，如HMDS。
相对于其他的光刻胶，PR1-2000A1有如下的一些额外的优势：
PEB，不需要后烘的步骤；
较高的分别率；
快速显影；
较强的线宽控制；
蚀刻后去胶效果好；
在室温下有效期长达2年。
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