有机无机蒸发镀膜仪
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有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构，主要由二个有机材料生长室组成，小方分子提纯设备，两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接，其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口，能够完成二套***的制备薄膜系统之间互相传送基片。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。
OLED镀膜机小方分子提纯设备
什么是蒸发镀膜？
蒸发镀膜常称真空镀膜。
其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。
ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，小方分子提纯设备价格，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
技术要求：
1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为Φ350×450mm，不锈钢材料，圆柱形前开门结构，内带有防污板。
2、抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；
2.1、真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa；
2.2、系统漏率≤1×10-7PaL/s。
3、蒸发源系统：有机源蒸发源一个，容积5ml，小方分子提纯设备生产厂家，一台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw；
4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ100mm的样品，载玻片；旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，烘烤加热温度为：室温～400℃，测温控温。
6、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
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小方分子提纯设备
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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