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东莞市至成真空科技有限公司

普通会员6
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经营模式:生产加工
所在地区:广东 东莞
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公司官网:www.zhichenggd.com
企业地址:东莞市万江区流涌尾工业区汾溪路450号
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东莞市至成真空科技有限公司服务于中国真空制造业各领域,我公司是一家**真空应用及设备研发制造的高科技企业。经营有:真空镀膜设备、中频离子镀膜设备、多弧离子镀膜设备、真空电镀机、镀金真空电镀机、实验室专用镀膜机。东莞市至成真空科技有限公司拥有一批真空行业**、工程师及**服务人员。致力于真空设备的研发......

实验室专用镀膜设备-镀膜设备-至成镀膜设备

产品编号:1222788810                    更新时间:2020-02-23
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东莞市至成真空科技有限公司

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  • 主营业务:真空镀膜设备,中频离子镀膜设备,多弧离子镀膜设备等
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真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能


真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究,为了获得性能良好的半导体电极Al膜,我们通过优化工艺参数,制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试,分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。

严格控制发Al膜的厚度是十分重要的,因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能,从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说,它的工作电压高,电流大,没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高,易烧毁。对于一般的半导体器件,Al层偏薄,则膜的连续性较差,呈岛状或网状结构,引起压焊引线困难,造成不易压焊或压焊不牢,从而影响成品率;Al层过厚,引起光刻时图形看不清,造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。


采用真空镀膜机电子束蒸发,行星机构在沉积薄膜时均匀转动,各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处,各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法,由于沉积电流和靶电压可以控制,也即是溅射功率可以调节并控制,因此膜厚的可控性和重复性较好,并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力,也是保证器件经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多,产生较高的热能,部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象,在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层,而且,在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗,清除了附着力不强的溅射原子,净化基片表面,增强了溅射原子与基片的附着力,因而溅射Al膜与基片的附着力较高。



真空镀膜机溅镀的原理


以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表,使其溅射出进入气相,可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电(glowdischarge)发生,在10-1—10Pa真空度,在两极间加高压发生放电,正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材,而镀至被镀物上。

正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体品种压力等有关。溅镀时应尽也许保持其安稳。任何资料皆可溅射镀膜,即便高熔点资料也简单溅镀,但对非导体靶材须以射频(RF)或脉冲(pulse)溅射;且因导电性较差,溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属lt;5W/cm2


二极溅镀射:靶材为阴极,被镀工件及工件架为阳极,气体(Ar气Ar)压力约几Pa或更高方可得较高镀率。

磁控溅射:在阴极靶外表构成一正交电磁场,在此区电子密度高,进而进步离子密度,使得溅镀率进步(一个数量级),溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳,是现在***有用的镀膜技能之一。



真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法


随着镀膜技术的快速增长,各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。但是论起薄膜的均匀性,恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。

对此,真空镀膜机厂家指出,它的运作原理其实很简单。就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击Ar气形成的Ar离子再轰击靶材,靶材离子沉积于工件表面成膜。如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、Ar气这三个方面。

真空状态就需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。


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