镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量,在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理,在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物),使镜头对这一波长的色光的反射降至很低。
沈阳诺思真空技术有限公司(原沈阳天成真空技术有限责任公司)成立于2012年,是以超高真空技术为基础、从事各种真空应用设备研发、生产和销售为一体的技术型企业。





磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,电子束蒸发厂,多弧,离子)所必需,电子束蒸发设备,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
由于真空镀膜设备要在真空条件下工作,绥化电子束蒸发,因此该设备要满足真空对环境的要求。我国制定的各种真空镀膜设备的行业标准(包括真空镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明确规定。只有满足了真空镀膜设备对环境的要求,才能使该设备正常运转,加上正确的镀膜工艺,方能生产出合格的镀膜产品。
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