PVD硬质涂层真空镀膜机应用介绍及它的系统特点
PVD超硬质涂层（工模具）真空镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的***专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。由于配有***的电器控制系统及稳定的工艺界面,针对各种金属进行表面镀膜.例如:钟表行业(表带、表壳、表盘等)、五金行业（卫生洁具、门把手、拉手、门锁等）、建筑行业（不锈钢板、楼梯扶手、立柱等）、精密模具业（冲棒标准件模具、成型模具等）、工具行业（钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头）、汽车工业（活塞、活塞环、合金轮毂等）以及钢笔、眼镜等等，使其表面得到既美观又耐磨的功能性磨层.主要镀制的膜层有:离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬以及RP镀等超硬功能性金属膜，经离子镀膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蚀和美化的作用。可镀制颜色有钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列共十多种色系。
光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点：
一、渐变折射率结构薄膜技术与装备：
渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate***面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除
了薄膜界面特征，(部分)消除界面效应，如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力学稳定性。
二、磁控溅射光学镀膜系统
以LeyboldHelios和ShincronRAS为代表，磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。
三、间歇式直接光控：
间歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系统为代表，光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。
离子真空镀膜机镀膜应用范围介绍
***近很多客户关于离子真空镀膜机相关知识，问的问题各不相同，但是从这些问题里面能发现一个问题，客户对离子镀膜机相关知识了解甚少，只是停留在基础表面，因此在和我们沟通的过程中，会出现沟通不是很顺利，因为我们需要详细的介绍很多***性的问题。今天至成真空小编趁着这个机会，为大家详细介绍一下离子真空镀膜机镀膜应用范围，这样大家以后也知道离子真空镀膜机后期能运用到哪些行业，及离子镀膜机能镀什么产品。
1、离子真空镀膜机镀膜的应用范围：半导体集成电路、光导纤维、太阳能电池、太阳能热水器、太阳灶、光盘、磁盘、敏感元件、平板显示器、选择吸收玻璃、智能窗玻璃、***植入部件等功能薄膜；
2、离子镀膜技术应用范围：工模具超硬涂层、航天轴承、机械零件；汽轮机叶片的耐蚀涂层；装饰件、手机配件。
3、离子镀薄膜的膜层结构：单源单层：氮化钛涂层TiN、TiC、ZrN、CrN、AlN等。硬度约1800—2600Hv；多元单层：TiCN、TiAlN等。硬度2200—2800Hv；复合涂层：TiN/TiCN、TiN/TiCN/TiN、TiN/ZrN、TiN/CrN、TiN/AlN、TiN/C3N4、TiN/C3N4/DLC等。硬度3500—4500Hv；
4、纳米结构涂层；多层膜中的每一层厚度为nm,也称之为“调制周期”。各层可以是化合物/化合物，也可以是金属非晶/纳米金属化合物，如：nc-TiN/a-Si3N4、Ti-Al-N、Ti-B-N等。调制周期6.8—30nm，硬度可达4700—10000Hv（47—100GPa）。要求镀膜机的配置能够满足沉积薄膜的厚度为0.2—5μm的纳米多层膜。
