





磁控溅射法的优势
目前常用的制备CoPt 磁性薄膜的方法是磁控溅射法。磁控溅射法是在高真空充入适量的ya气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使ya气发生电离。ya离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,多功能磁控溅射镀膜机哪家好,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。
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危害磁控溅射匀称性的要素
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靶基距、标准气压的危害靶基距都是危害磁控溅射塑料薄膜薄厚匀称性的关键加工工艺主要参数,塑料薄膜薄厚匀称性在必须范围之内随之靶基距的扩大有提升的发展趋势,无心插柳工作中标准气压都是危害塑料薄膜薄厚匀称性关键要素。可是,多功能磁控溅射镀膜机,这类匀称是在小范围之内的,由于扩大靶基距造成的匀称性是提升靶上的一点儿相匹配的板材上的总面积造成的,而提升工作中标准气压是因为提升物体光学散射造成的,显而易见,这种要素只有在小总面积范围之内起***。


溅射镀膜机溅射镀技术应用
蒸发镀应用新型电极 引入装置,接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛,各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车,操作 方便、***。 (或双门蒸发、磁控两用机) 公司业务范围真空镀膜成套设备与技术,真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件,多功能磁控溅射镀膜机供应商,真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。真空设备故障诊断与排除、老 产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究,咨询服务。新技术、新设备、新工艺公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机,配用改进型高真空抽 气系统及全自动控制系统,抽速快、效率高、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理 想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。

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