洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。GMP规定的药厂洁净室生产条件为：温度18℃～26℃，相对湿度45%～65%。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。
净化技术的设备发展
在洁净室建设规模和技术水平上，我国与******差距更大。日本清水建设公司一家，1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71.8万平方米，而我国目前一年承建的洁净室总面积还不到10万平方米，但八五期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计已达188.5万平方米。有的工厂为了简便和省钱，在原空调器内增加湿膜或喷雾进行加湿以加大加湿量。在洁净工程技术水平上，80年代末期，国外已大量建成0.1微米级的超净室，1987年日本三洋新泻工场建成十级洁净厂房3000平方米，NIT原木则建成了四个1000平方米控制0.1微米尘埃的千级厂房，换气次数高达300次/分。
净化工程中应该注意什么?
生产环境的洁净度直接影响产品质量，净化工程是为了控制生产环境中大气的洁净度和温湿度，为产品营造一个良好的生产与制造环境。在净化工程中应该注意什么?才能发挥净化工程的佳状态。现在，昆山清阳净化系统工程有限公司为大家介绍。
无尘车间对洁净度的要求很高为10000级，温度20-24℃,湿度45-60%。当人员进入洁净室时要注意避免污染物进入，应在旁边建立缓冲间，当工作人员进入前先将紫外灯关闭。
洁净室要保持干净，杂物不能乱放。洁净室要按时灭菌消毒，人员进入时即使有防尘措施(穿戴无尘服，手套，帽子等)也应经过消毒才能进入，及带入的东西都要进行灭菌处理,虽然这些都是简单的事情，但是对洁净室净化工程来说是非常重要的。
