高温束源炉的特点
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温度控制和均匀的基于SCR 功率输出电源实现准确的沉积速率控制，并确保高质量的，均匀的膜。
◆ 使用PID 控制器进行温度控制，控制在±1℃
◆ 自动调节模式
◆ 可调节报警条件
◆ 速率控制输入与沉积控制相兼容
靶材镀膜工艺介绍
用于建筑玻璃的镀膜玻璃-般都镀薄膜。 我们把厚度低于1um的膜层叫薄膜，厚度高于1um的膜叫厚膜镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法。镀膜的方法很多,真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶法等。它要求膜层要有非常强的附着力,附着力不强的叫覆盖。要获得强附着力,就必须将玻璃表面清洁干净。
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靶材镀膜前的清洁
在进行镀膜前都必须将基片进行清洁,对于在线镀膜来说,这是很小的事情,但对离线镀膜来说却相当重要,而且操作起来也比较困难，对于大面积的镀膜来说,将玻璃基片完全清洁干净是不可能的,因此,如何达到镀膜所必须要求的洁净程度就变得非常重要。要保持清洁程度足够高,如果清洁程度不够,膜层容易老化,甚至脱膜等现象。不同用途,不同加工工艺的膜层对清洁程度要求是不一样的,对于目前我司生产的玻璃来说, Low-E玻璃要求的玻璃洁净度不如热反射玻璃高。目前要为镀膜准备大面积的镀膜玻璃基片，主要采用的是一 种湿式清洁技术,这种技术包括三部分:
1.松动玻璃表面的杂质
2.去除已经松动的、分离的杂质
3.干燥已经清洁的玻璃表面
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