多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备
多弧磁控溅射多功能离子镀膜备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿腊、装饰腊、合金膜或多层腊，可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、器械、仪器仪表等领域。
多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备在真空条件下采用物***相沉积技术，在基片上镀制氮化钛及其它薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控油射离子镀技术有机结合在一起，可单独使用或同时使用，制取含有连续过渡层的各种膜层。
多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备制造简单，使用方便，运行成本低无污染，经济效益高。其双真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大节省***。
磁控溅射真空镀膜机的主要用途有哪些
磁控溅射技术在市场上运用非常广泛，也受到了众多商家的采纳，自然磁控溅射真空镀膜机也被众多商家认可，下面至成真空小编为大家详细介绍一下磁控溅射真空镀膜机的主要用途：
（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。
（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
（3）在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（CVD）或金属有机
（4）化学气相沉积（CVD）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
（5）在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
（6）在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用
PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理
厂家在采购PVD真空镀膜机时，商家都会培训PVD真空镀膜机的相关知识，如镀膜技术工艺步骤、原理、***维护方法，机器的运行注意事项等等，今天至成小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。
PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤，分为以下四个步骤：
（1）清洗工件：接通直流电源，Ar气进行辉光放电为Ar离子，Ar离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
（2）镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
（3）镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件；
（4）镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
如果是镀离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。