精密立式蚀刻机特殊设计的精密运动机构与系统确保了湿法至高蚀刻精度在该机型上的实现，在合适的工艺技术条件下，至低蚀刻精度为0.012mm，水平蚀刻机厂商，单机使用时，大型蚀刻机流水线，特别适合中小批量的高精度生产，多台联用可实现大批量高精度生产。
精密立式蚀刻机具有高稳定高可靠的标配SNAB系统和HONEST等关键系统，保证了该机优异性能的***体现，胜任声波器件、精密金属光栅、超精密网片等精密零件的加工。
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光刻机难度大，刻蚀机难度小，光刻机把图案印上去，刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案/无图的部分，留下剩余的部分，下面东莞市万江信利电路板设备加工厂来给大家说说它们的工艺操作区别。
1、光刻机：利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将掩膜版上的电路图形传递到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形；
2、刻蚀机：用化学和物理方法，自动型蚀刻机，在经显影后的电路图持久和精准地留在晶圆上，微型蚀刻机工厂，选择性的去除硅片上不需要的材料，刻蚀工艺的方法有两大类，湿法蚀刻和干法蚀刻。
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