在芯片制造领域，光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，这两个东西都必须。
而在光刻机方面，与世界的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争，但A***L终究是背后霸主，赢家，因为他们谁都离不开他的EUV光刻机。而国产光刻机还在路上，目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片，这在全世界尚无先例，它也被称为世界上首台分辨力的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。
电解蚀刻实际就是电解某种金属材料，如电解铜、铁等。具体做法是将要蚀刻的制件做阳极，用耐蚀金属材料做辅助阴极。将阳极连接电源的正极，辅助阴极连接电源的负极。如图6—7所示。
电解蚀刻工作原理示意图
当电流通过电极和电解质溶液时，在电极的表面及电解质溶液中发生电化学反应，利用这种反应将要溶解去除的部分金属去除，达到金属腐蚀的目的。根据法拉第定律，电流的通过量与金属的溶解量成正比，也就是被蚀刻的金属越多，消耗的电量就越大。根据电化学原理，电解蚀刻装置的电源接通后，在阳极上发生氧化反应、在辅助阴极上发生还原反应。阳极反应的结果是蚀刻部位的金属被氧化变成水合离子或络合离子进入电解质溶液
蚀刻
1.化学蚀刻
蚀刻液一般都是强酸或强碱。尽可能使反应快速完成，一般蚀刻速度为0.04mm/分钟，蚀刻速度越快，侧蚀的程度就越小，所得到的工件精密度就越高。
2.电化学蚀刻
把工件做阳极，在电解液中通电，工件上未被保护部位因作阳极而溶解，从而达到蚀刻的目的。电化学蚀刻的蚀刻速率一般由工件表面的电流密度来控制。
对于蚀刻完成既为成品的产品，直接退去保护油墨。要根据所采用的油墨性质来选用脱墨液：
1.对于水性油墨，可采用20%水溶液/50~60℃浸泡约十分钟，然后擦拭，去除油墨。
2.对于油性油墨，要用进行浸泡约十分钟，然后进行擦洗去除。
对于蚀刻的成品，进行手工填漆、电泳涂装或者电镀，从而形成同一平面两种双色甚至多种颜色的外观效果
