pvd真空电镀|安徽万锦(在线咨询)|合肥真空电镀

设计考虑因素

1.真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，真空电镀工艺，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。

2.真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，合肥真空电镀，常见的真空腔室内靶材应小于1.2*1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）

3.真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑，否则会影响处理效果。

4.真空电镀可镀色彩丰富，可以镀7色，pvd真空电镀，比水电镀的颜色要丰富。

5.真空电镀是***常见的金属表面处理技术。

真空电镀是一种物理沉积现象。即在超低压容器中，不锈钢真空电镀，利用电场的迁移作用对被镀件涂覆金属、金属化合物、或非金属涂层的一种工艺。

真空电镀的前处置在电镀出产线上是电镀技术中十分关键的一步，基体资料外表处置的好坏直接影响镀层的质量，因而应对电镀前处置恰当的注重。镀层均匀、致密、附着性好、硬度高、磨擦系数低；其特点为光亮，美观，价廉，生产过程无公害。