Parylene真空涂敷技术有优异的电性能，介电性能和低的介质损耗及高的介电强度。同时它还具有优良的机械性能，高的机械强度和低的摩擦系数，它不仅能提供绝缘而且也能消除摩擦引起的绕线时对线的损伤。Parylene涂层较薄且厚度均匀使绕线器件能保持较大的绕线窗，并在棱角处有足够的涂层厚度，使性能参数极大的提高。明显优于刷涂，浸涂，镀膜，喷涂等其它涂敷技术。它的***性主要是气相单体直接形成固体涂层而没有液态的过程。
美国野马真空公司所制造的不导电膜镀膜设备是新技术、新产品、新工艺层出不穷，其产品价值高，市场潜力大，盈利空间大，将逐步替换传统电镀产业而成为主流的塑料类产品表面处理技术， 将为企业和社会带来明显的经济效益和社会效益。蒸发镀膜设备运行与维护。 蒸发镀膜设备工作方式就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，绝缘镀膜，使之蒸发、升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺.在真空条件下成膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，镀膜，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
真空镀膜技术的应用时较早的。20世纪初大发明家爱迪生就提出了唱片蜡膜采用阴极溅射进行表面金属化的工艺方法，并于1903年申报了专利，这便是薄膜技术在工业上应用的开始。但是这一技术在当时因受到真空技术和其他相关技术发展的限制，发展速度较慢。直到二次期间，德国使这一技术服务于，制备各种光学镜片和反光镜，防腐镀膜，从而首先使用这一技术在光学工业中得到了迅速的发展。并且逐渐形成了薄膜光学，成为光学的一个重要分支。真空镀膜技术在电子方面开始是用来制造电阻和电容元件，之后随着半导体技术在电机学领域中的应用，又使这一技术成为晶体管制造和集成电路生产的必要工艺手段。近年来，随着集成电路向大规模和超大规模集成方向发展，从而又对真空镀膜技术提出了新的要求。因而在电机学领域中又产生了一个新的分支—薄膜微电子学。
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