真空电镀设备膜厚的不均匀问题
无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。
在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。
手机纳米膜真空镀膜与电镀的区别
真空镀膜又称真空离子镀，是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种全新的干式镀膜方法。过去物体表面镀制薄膜作为物体表面改性的手段是采用湿式的电镀发或化学镀法。
在电镀法中，被电解的离子镀到作为电解液中另一个电机的被镀件表面上而成膜，因此，其基体必须是良导体，度也难以控制。
(1)水电镀颜色较单调，一般只有亮银和亚银等少数几种，对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等，五花八门的七彩色就无能为力了;而真空电镀可以解决七彩色的问题，可镀金色、红色、蓝色等各种颜色。
(2)真空镀膜的附着力(附着强度)好，膜层十分牢固，不易脱落。
(3)真空镀膜的膜材和基体材料有广泛的选择性，可制备各种不同的功能性涂层。
(4)电镀一般的镀层材质采用“六价铬”，这是非环保材料，无法出口欧美市场，而真空电镀的镀层材质为铝，安全环保，能达到欧美市场的环保监测指标。
蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等片置于坩埚前方。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。电气设备包括测量真空和膜层厚度及控制台等。因此，排气系统既要求在较短的时间内获得低气压以保证快速的工作循环，也要求确保在蒸气镀膜时迅速排除从蒸发源和工作物表面所产生的气体。为了提高抽气速率，可在机械泵和扩散泵之间加机械增压泵。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。蒸发式真空镀膜机常用蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置。真空室是放置镀件、进行镀膜的场所，直径一般为400~700mm，高400~800mm，用不锈钢制作，有水冷却装置。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发系统包括蒸发源和加热蒸发源的电气设备。