影响镀膜机磁控靶点火电压的几个因素
气体压力对点火电压的影响：在磁控靶溅射镀膜工艺过程中，由于磁控靶的阴-阳极间距一经确定就是一个大体不变的值，工作气体的压力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范围内变化可能会对点火电压产生较大的影响，总的变化趋势为：随着工作气体的压力的逐步增大，磁控靶点火电压相应降低。不同的磁控靶、不同材质的靶材，靶启辉点火的工作气体压强不尽相同。
电源对点火电压的影响：在同等条件下，选用射频靶电源比选中频或直流靶电源，磁控靶阴极点火电压和工作(溅射)电压都会要降低;选用射频、中频正弦半波或脉冲靶电源，比选低频率同类波形靶电源，阴极点火电压和工作(溅射)电压均会要降低;
机械/涂层镀膜设备
将性能发挥限：F1、Nascar、MotoGP、WRC、OSS赛艇等，在这些运动中，每一盎司的重量都经过精打细算。轻型现代材料的利用具有限制性，同时还减少摩擦损失。机械/涂层真空镀膜机满足上述要求。
摩擦和磨损：内燃机内部的摩擦造成大约百分之十的能效损失。主要的摩擦点来自活塞总成、气门结构和曲轴。由于齿轮需要大量的润滑油以备润滑，也会造成效率损失。
在零件表面使用HC涂层，从而增加负荷密度，降低润滑需求。钛等容易磨振和磨损的材料能够应用在上还是归功于涂层和表面处理，涂层和表面处理能够降低摩擦系数，提高硬度，同时还能保持基体材料本身的核心性能。
工程：至成镀膜机厂家真空工程师从零件设计开始就与客户合作，以满足每一客户的特定需求。
不仅仅只是涂层：为达到良好性能，爱恩邦德采用了大量专门研发的涂层表面预/后处理技术，与涂层相结合，能够发挥涂层的优势性能。
五金首饰真空镀膜机
集成了直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发技术，结合线性电离源和脉冲偏压涂层薄的沉积颗粒。各种膜性能的改善，能大衣合金薄膜，复合膜，多层复合膜的金属表面上以及非金属。金首饰真空镀膜机集成了直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发技术，结合线性电离源和脉冲偏压涂层薄的沉积颗粒。各种膜性能的改善，能大衣合金薄膜，复合膜，多层复合膜的金属表面上以及非金属。经过多年专门的研发我们的工程师，通过独特的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，我们开发了一套计算机自动控制系统使涂膜附着力密度以及复杂的一致性好，解决手工操作的复杂性，膜的颜色不一致等问题。
