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离子镀是真空镀膜工艺”的一项新发展。普通真空镀膜（亦称真空蒸镀）时，工件夹在真空罩内，当高温蒸发源通电加热后，促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发。由于温，五十铃车灯杯订做，蒸发料粒子获得一定动能，则沿着视线方向徐徐上升，***后附着于工件表面上堆积膜。用这种工艺形成的镀层，与零件表面既无牢固的化学结合，有无扩散连接，附着能很差，有时就像桌面上落的灰尘一样，用手一摸也会擦掉。
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有机镀膜与无机镀膜的根本区别
真正的玻璃镀膜应为纯无机质成分，成膜后不应含有任何j基团（CH3）。利用红外线光谱吸收分析法，可以了解各种镀膜原料的内部化学成分，这是区别真假无机质镀膜产品的重要科学依据。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：
离子轰击：指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗，能有效去除工件表面的氧化物；但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。
本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少，这保证镀膜时反应气体的纯度，从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3
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