镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：
弧靶电流：弧靶电流越大，靶材蒸发量越大，靶面温度越高，冷却越差，弧靶产生的液滴大颗粒越多，膜层外观越差，膜层中的缺陷越多。
本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率，漏率越大，进入炉内的杂气就越多，不管真空度多高，这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度，会***膜层的结合力和膜层颜色的纯度。
佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑 镀膜为主的***生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
真空镀膜的形式：蒸发镀膜
工艺原理：
1）在真空室中，膜料被加热变成蒸发原子，蒸发原子在真空条件下不与残余气
体分子碰撞而到达工件表面；
2）蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；
3）吸附原子在基材表面发生表面扩散。
镀膜基片
镀膜基片有：浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。01-100um,并以高达100m/s的速度在阴极靶表面随机运动,也可以利用磁场控制阴极弧斑的运动。镀膜前基片必须用纯净水清洗，去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质，因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力，或者影响镀膜玻璃的外观质量。如果基片表面存在胶印、笔印等不能清洗掉的杂质，在清洗之前必须用酒精将杂质擦去。
