在芯片制造领域，光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，这两个东西都必须。
而在光刻机方面，与世界的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争，但A***L终究是背后霸主，赢家，因为他们谁都离不开他的EUV光刻机。而国产光刻机还在路上，目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片，这在全世界尚无先例，它也被称为世界上首台分辨力的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。
1、 化学蚀刻法—用强酸或强碱溶液直接对工件未被保护部位进行化学腐蚀，这也是目前使用的一种方法，优点是蚀刻深度可深可浅，蚀刻速度很快，缺点是腐蚀液对环境有很大的污染，特别是蚀刻液不易回收。并且在生产过程中对操作工人的身体健康***。
2、 电化学蚀刻—这是一种把工件做阳极，使用电解质通电，阳极溶解，从而达到蚀刻目的的方法，其优点在于环保方面，对环境污染很小，对操作工人的身体健康无害，缺点是蚀刻深度较小，大面积蚀刻时，电流分布不均匀，深度不易控制。
3、 激光蚀刻法—优点是线性边沿整齐无侧蚀现象，但成本很高，约为化学蚀刻法的一倍。印刷电路板行业印刷锡膏时，所用的不锈钢丝网大多是用激光蚀刻法制作的。
蚀刻
1.化学蚀刻
蚀刻液一般都是强酸或强碱。尽可能使反应快速完成，一般蚀刻速度为0.04mm/分钟，蚀刻速度越快，侧蚀的程度就越小，所得到的工件精密度就越高。
2.电化学蚀刻
把工件做阳极，在电解液中通电，工件上未被保护部位因作阳极而溶解，从而达到蚀刻的目的。电化学蚀刻的蚀刻速率一般由工件表面的电流密度来控制。
对于蚀刻完成既为成品的产品，直接退去保护油墨。要根据所采用的油墨性质来选用脱墨液：
1.对于水性油墨，可采用20%水溶液/50~60℃浸泡约十分钟，然后擦拭，去除油墨。
2.对于油性油墨，要用进行浸泡约十分钟，然后进行擦洗去除。
对于蚀刻的成品，进行手工填漆、电泳涂装或者电镀，从而形成同一平面两种双色甚至多种颜色的外观效果
