精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块，连续转动数小时可得到耀眼光亮的表面。精密线纹尺的抛光是将加工表面浸在抛光液中进行的，抛光液由粒度为W5～W0.5的氧化铬微粉和乳化液混合而成。 抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或的细毛毡制成，其运动轨迹为均匀稠密的网状，抛光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米，在放大40倍的显微镜下观察不到任何表面缺陷。此外还有电解抛光等方法。
)铝合金型材转移.化学抛光后,铝合金型材应该迅速转移到水洗槽中进行水洗.因为附着在铝合金型材上的化学抛光槽液十分黏滞,铝合金型材出槽后温度迅速冷却,化学反应还在继续,气体不断逸出,含量很快下降,表面液体层的溶铝量不断升高,越来越偏离正常的化学抛光所必要的工艺条件.如果铝合金型材转移迟缓,就有可能出现转移浸蚀等缺陷.
多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
)铝合金型材转移.化学抛光后,铝合金型材应该迅速转移到水洗槽中进行水洗.因为附着在铝合金型材上的化学抛光槽液十分黏滞,铝合金型材出槽后温度迅速冷却,化学反应还在继续,气体不断逸出,含量很快下降,表面液体层的溶铝量不断升高,越来越偏离正常的化学抛光所必要的工艺条件.如果铝合金型材转移迟缓,就有可能出现转移浸蚀等缺陷.多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。