在芯片制造领域，光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，这两个东西都必须。
而在光刻机方面，与世界的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争，但A***L终究是背后霸主，赢家，因为他们谁都离不开他的EUV光刻机。而国产光刻机还在路上，目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片，这在全世界尚无先例，它也被称为世界上首台分辨力的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。
“这俩机器的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉,这样看起来似乎没什么难的,但是有一个形象的比喻,每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂,这就是这光刻和蚀刻的难度。”
光刻机的工作原理是在硅片上涂上一层均匀的光刻胶，这种胶状物，只能被光腐蚀，而不能被化学物质腐蚀，然后利用紫外线照在上面，其中还包含了编码，用光把不需要的地方腐蚀掉，用光刻技术制作出自己需要的图形。蚀刻机被用来在光刻机“复印”到晶圆的电路轮廓上进行雕刻，蚀刻出“山地和沟壑”，形成栅极，也就是常说的晶体管。便于大家理解，简单来说，光刻机是在一块木头上作了一幅画，而蚀刻机就是根据光刻机的画雕刻出3D的作品。但实际上过程并不是我们形容的那么简单。目前我国中微半导体在蚀刻机方面也是取得了重大成果。
可以采用满版印刷、刷涂、滚涂或喷涂的方式，对油墨涂层的均一性要求不是很高，只要能保证涂层能够在蚀刻时对产品需保护部位得到充分的保护。
此工序和制作网板中的涂布工序差不多，只是制作网板是在网砂上涂感光油墨，而金属蚀刻是直接在工件表面涂布
热风预烘干（30-40℃，10-15分）
目的只是防止***时感光油墨粘住菲霖。要在暗室中进行操作。
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高压灯、碘灯、金属卤素灯。
时间：二十秒左右，抽真空；根据工件的精度要求适当调整***时间。精度要求越高，***时间要适当缩短
显影
对于水光油墨，可采用1%碳酸钠水溶液或直接用清水，温度25-30℃，手工显影或喷射显影。
对于油光油墨，可采用进行手工显影或喷射显影。
