干式机械真空泵的应用是广泛的，主要有以下几个方面：
低压化学气相沉积中的多晶硅制备工艺中；
半导体刻蚀工艺。在这些生产工艺中往往用到或生成腐蚀性气体和研磨微粒；
除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺，不希望微粒混入泵油中，而希望微粒排出泵外，则用一定型式的干式机械真空泵可以满足要求；
在化学工业、食品工业中的蒸馏、干燥、脱泡、包装等，要防止造成污染，适合用干式真空泵；
用做一般无油清洁真空系统的前级泵，以防止油污染。
针对工时利用率偏低的现状，真空设备制造企业应认真研究企业现行的生产***方式，研究是否可以将顺序生产与交叉生产的方式进行有机地结合，***终形成***适合本企业实际情况且富有效率的生产***方式。同时，要认真研判员工的工时利用率问题，找出可改善的节点，改善人浮于事的状况，科学地减少现场作业人员的等待时间，采取激励措施提高员工的操作水平，合理地加快生产节奏。这样不但可以提高企业的整体劳动生产效率，增强员工劳动中的质量意识与责任意识，也可以让因为生产现场中人员的闲置所造成的一系列管理难题得到针对性的解决。磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向，并束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。
磁控溅射设备的主要用途：
各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。
时沿装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机
化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得面积非常均匀的薄膜。
在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。