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风淋室是现代工业洁净厂房中必不可少的洁净配套设备，它能去除人和物外表的尘土，一起又对风淋室两边的洁净区和非洁净区起到了缓冲与阻隔的作用。该设备广泛运用于食物、医药、生物工程及精细电子等范畴。风淋室分为“普通型和联锁型”两类：普通型选用手动发动吹淋的控制方法，个别操作者会挑选“不通过吹淋就脱离”的躲避方法。这使得洁净区的空气洁净度难以保证。甚至可能会影响到产品质量。

洁净室内，在动态情况下，无尘车间工程服务，***及尘土的较大发生源是操作者，当操作者进入洁净室之前，必须用洁净空气吹淋其衣服外表附着的尘土颗粒。

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洁净作业棚是为在乱流式之洁净室空间内以防静电之通明塑料布围成一小空间，采用***之HEPA或ULPA及空调送风机组而成为一较高之洁净空间，其等级为10~1000级，高度在2.5米左右，覆盖面积约10m2以下，四支支柱并加装活动轮，可为弹性运用。

净化工程室中的温湿度控制：直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性胀大，所以必须有±0.1度的恒温，一起要求湿度值一般较低，因为人出汗今后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，无尘车间工程，这种车间温度不宜超越25度，吉安无尘车间，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超越55%时，冷却水管壁上会结露，无尘车间工程服务商，如果发生在精细设备或电路中，就会引起各种事端。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将经过空气中的水分子把硅片外表粘着的尘埃化学吸附在外表难以铲除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的效果使粒子也容易吸附于外表，一起很多半导体器材容易发生击穿。关于硅片出产较佳湿度范围为35—45%。