AR AF溅射镀膜机有哪些特点
专门为层数不多但要求产能大、效率高的光学薄膜产品镀膜生产而设计，适用于玻璃和塑胶光学镜片、眼镜片AF、AS膜的镀膜生产，也适用于手机视窗(玻璃或塑胶)、塑胶片材彩色光学膜的制备。旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高。可客制化的基板工件架结构定制，给客户产品摆放达到利用空间。***率真空泵组配比与精密的腔体结构使我司抽气效率达到行业水平。至成专利RF离子源具有工作范围广能量均衡，高离化率，超稳定工作效率，低耗能等特点。可生产高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。低温成膜，可应对各种用途。可依靠负载锁定装置保持稳定的成膜品质。利用自动溅射控制装置，使溅射工艺实现了自动化。可选“校正板外部调节机构”。
真空镀膜技术优点
清洗过程简化：现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。
可镀材料广泛：离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层***的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。
真空镀膜与光学镀膜的区别
1、真空镀膜是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术。而光学镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
2、真空镀膜是真空应用领域的，而光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。
