蚀刻不锈钢带中的1/2H,1/4H是什么意思？
一般带材或称卷材，宽度20-610mm,可根据客户需要进行分条处理，***窄宽度可分为5mm，我们蚀刻加工的不锈钢带在300宽以上或***少需要达到150mm较好。这主要是针对平面蚀刻工艺。
蚀刻不锈钢带表面分为好几种：亮面(BA)，雾面(2B)，镜面(8K)，拉丝(HL)CSP；NTK-D7是一种含镍量比304低、含锰量比304高并含铜的奥氏体不锈钢。蚀刻不锈钢带硬度：不锈钢带，一般分为软态，半硬，中硬，特硬四种；1/2H冷扎硬化不锈钢带的硬度HV要310以上，3/4H的HV要370以上，H的硬度要430以上；
蚀刻不锈钢带料硬度为130度，此材料为深拉伸材料，延伸率可达50%以上，1/4H硬度为180度以上；所以，针对不同的材料，所使用的硬度，要求等等都是不同的。也直接影响到***终产品的性质和品质。
兴之扬咖啡机不锈钢网片小编来向大家说说干式蚀刻时主要须注意的方面有哪些？
干式蚀刻时主要须注意蚀刻速率、均匀度、选择比及蚀刻轮廓等。纯物理性蚀刻可视为一种物理溅镀(Sputter)方式，它是利用辉光放电，将气体如Ar，解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，溅击在被蚀刻物的表面，而将被蚀刻物质原子击出。蚀刻速率越快，则产能越快，有助于降低成本提升竞争力。蚀刻速率通常可由气体种类、流量、电浆源及功率等所控制，一般而言，在其它因素尚可接受的范围内，蚀刻速率越快越好。均匀度是晶圆上不同位置蚀刻差异的一个指标，均匀度越好意谓着有较佳的良率，当晶圆尺寸越来越大，均匀度的控制就显得更加重要。控制选择比通常与气体种类与比例、电浆源及功率、乃至于反应温度均有关系。蚀刻轮廓一般而言以接近90度为佳，除了少数特例，如接触窗(ContactWindow)或引洞(ViaHole)，为了使后续金属溅镀能有较佳的覆盖能力(StepCoverage)，因而故意将其轮廓蚀刻成小于90度的型态。而通常蚀刻轮廓的控制可藉由调变气体种类与比例、电浆源及功率等来进行。
兴之扬316不锈钢网片小编给大家介绍什么是二氧化硅的湿式蚀刻：
在微电子组件制作应用中，二氧化硅的湿式蚀刻通常采用HF溶液加以进行(5)。而二氧化硅可与室温的HF溶液进行反应，但却不会蚀刻硅基材及复晶硅。反应式如下：SiO2 6HF=H2 SiF6 2H2O
由于HF对二氧化硅的蚀刻速率相当高，在制程上很难控制，因此在实际应用上都是使用稀释后的HF溶液，或是添加NH4F作为缓冲剂的混合液，来进行二氧化硅的蚀刻。但马氏体蚀刻不锈钢也大量应用在构造钢方面，这个时分热处置就必需选择调质处置(淬火 回火)运用，关于马氏体的回火处置，必需留意一些细节。NH4F的加入可避免氟化物离子的消耗，以保持稳定的蚀刻速率。而无添加缓冲剂HF蚀刻溶液常造成光阻的剥离。典型的缓冲氧化硅蚀刻液(BOE:BufferOxideEtcher)(体积比6:1之NH4F(40%)与HF(49%))对于高温成长氧化层的蚀刻速率约为1000?/min。
在半导体制程中，二氧化硅的形成方式可分为热氧化及化学气相沉积等方式；而所采用的二氧化硅除了纯二氧化硅外，尚有含有杂质的二氧化硅如BPSG等。一般带材或称卷材，宽度20-610mm,可根据客户需要进行分条处理，***窄宽度可分为5mm，我们蚀刻加工的不锈钢带在300宽以上或***少需要达到150mm较好。然而由于这些以不同方式成长或不同成份的二氧化硅，其组成或是结构并不完全相同，因此HF溶液对于这些二氧化硅的蚀刻速率也会不同。但一般而言，高温热成长的氧化层较以化学气相沉积方式之氧化层蚀刻速率为慢，因其组成结构较为致密。