显影剂是对氧具有亲和力的有机化学还原剂，可以将金属从其盐中释放出来，如上所述，它们将照相乳剂中的卤化银转化为纯银。大多数现代显影剂（抗坏血酸和苯乙铜除外）由苯系列的复杂有机烃（称为芳烃）组成，禅城凹凸面***显影，其中大部分是从煤焦油中提取的。评估各种显影剂时要考虑的因素包括在水中的溶解度，产生雾的趋势，染色效果，凹凸面***显影设计，对温度变化的敏***，对xiu化物的反应，对溶液pH的敏***，保持性能，对粒度的影响以及毒性。
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进行显影的方式有很多种，广泛使用的方法是喷洒方法。这种显影方式可以分为三个阶段：硅片被置于旋转台上，并且在硅片表面上喷洒显影液；然后硅片将在静止的状态下进行显影；显影完成后，需要经过漂洗，之后再烘干。
显影后留下的光刻胶图形将在后续的刻蚀和离子注入工艺中作为掩模，因此，显影是一步重要的工艺。严格的说，在显影时***区和非***区的光刻胶都有不同程度的溶解。***区与非***区的光刻胶溶解速度反差越大，显影后得到的图形对比度越高。
干膜显影不洁因素很多，例如：显影线喷嘴堵塞、***露光现象、残渣回沾、显影液老化、***时间过长、显影时间不足、保护膜清除不全、底片破洞、干膜回溶等太多因素。因此要清楚是什么问题，还是要看缺点现象如何。
经过氯化铜测试的电路板，使用盐酸或微蚀液就可以去除残痕。但是您必须是轻微测试才可执行，凹凸面***显影厂家，若事先氯化铜测试过度，则表面可能过度损伤不易回复平整新鲜状态，这种状况下要去除就有问题。
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