OLED有机无机联合蒸发系统介绍
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OLED有机无机联合蒸发系统
设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成：
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。
技术要求：
1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。
2、抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；
3、有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw；
3、挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启；
4、样品架系统：可放置大小为Φ120mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；
5、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
6、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；
7、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
电阻热蒸发镀膜产品多源有机无机热蒸发镀膜机报价
300D三源有机蒸发镀膜机
主要用途：
特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室系统蒸发室、蒸发源系统、样品台系统、 真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、膜厚测试 系统、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； ***真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa（短时间暴露 大气并充干燥氮气后开始抽气）
样品台：尺寸为4英寸平面样品；
蒸发源：3套
4套挡板系统：挡板共有3套，动密封手动控制；
气路系统:质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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