影响镀膜机磁控靶点火电压的因素有哪些
靶材对点火电压的影响
(1)阴极靶材的不同材质，因溅射的能量阀值的不同，一般溅射“逸出功”较小的阴极靶材，其点火电压和工作的电压要低一些，反之则会高一些。(2)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁等)和铁素体靶材，会偏转和减少阴极溅射靶面磁场对磁控靶造成影响。靶面磁场的降低，使磁控靶需要很高的电压才能点火起辉。(3)点火电压与磁控靶靶材溅射面积和真空腔体的机械尺寸大小有关。靶材溅射面积大，或是真空腔体的机械尺寸大，相应充入工作气体的数量值较多，在同一阴-阳极电压下，工作气体例如气电离出导电正离子和电子亦增多，导致点火电压下降(在镀膜时还会造成磁控靶溅射电压一定程度上的降低)。
磁控溅射镀膜靶电源的空载电压
(1)靶电源输出的空载电压主要供磁控靶“点火起辉”用，其峰值电压大体可分为三挡，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大约在5KW以下的靶电源输出空载电压的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶电源其输出的空载电压的峰-峰值Vp-p大约在800~1KV;且电源功率越大,其输出的空载电压越接近偏小值。(3)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁)以及其它铁素体靶材，在选用靶电源输出的空载电压时，须选择靶电源输出空载电压峰-峰值Vp-p范围的偏大数值。
蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?
电镀设备真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
为了提高镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能良好，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。
五金装饰膜离子镀膜机有哪些特点
该设备是一种***、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。五金装饰膜离子镀膜机是一种***、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
真空电弧离子镀膜的原理是基于冷阴极自持弧光放电等离子体蒸发、电离镀料，结合脉冲偏压技术，提高沉积粒子能量和活性，增强膜层的各项性能。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜；可以镀金属膜，氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬及镍、铬、铜等化合物膜、多层超硬膜、多元化合物膜，还可以镀氮化钛掺金膜等。电弧离子镀膜广泛应用于工具、模具的超硬涂层，汽车轮毂、高尔夫球具、钟表、酒店用品、卫浴洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品、陶瓷和玻璃等的装饰涂层等领域。
至成镀膜机厂家着力改进圆形电弧蒸发源，同时着力开发高性能矩形平面电弧蒸发源，均已装配新机。