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东莞市至成真空科技有限公司

普通会员6
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公司官网:www.zhichenggd.com
企业地址:东莞市万江区流涌尾工业区汾溪路450号
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东莞市至成真空科技有限公司服务于中国真空制造业各领域,我公司是一家**真空应用及设备研发制造的高科技企业。经营有:真空镀膜设备、中频离子镀膜设备、多弧离子镀膜设备、真空电镀机、镀金真空电镀机、实验室专用镀膜机。东莞市至成真空科技有限公司拥有一批真空行业**、工程师及**服务人员。致力于真空设备的研发......

AF光学镀膜机信赖推荐 至成镀膜机量身订制

产品编号:1382243110                    更新时间:2020-04-19
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东莞市至成真空科技有限公司

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  • 主营业务:真空镀膜设备,中频离子镀膜设备,多弧离子镀膜设备等
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常用的光学镀膜有哪些?


二,光学薄膜

减反射膜是应用***广、产量大的一种光学薄膜,因此,它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题,研究的***是寻找新材料,设计新膜系,改进淀积工艺,使之用***少的层数,简单、***稳定的工艺,获得尽可能高的成品率,达到理想的效果。对激光薄膜来说,减反射膜是激光损伤的薄弱环节,如何提高它的***强度,也是人们***关心的问题之一。

反射膜

它的功能是增加光学表面的反射率。反射膜一般可分为两大类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。此外,还有把两者结合起来的金属电介质反射膜。

一般金属都具有较大的消光系数,当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内部的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。人们总是选择消光系数较大,光学性质较稳定的那些金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄膜材料是铝,在可见光区常用铝和银,在红外区常用金、银和铜,此外,铬和铂也常用作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能,所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽;缺点是光损耗大,反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质反射膜。需要指出的是,金属电介质反射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率,却***了金属膜中性反射的特点。



干涉滤光片

是种类多、结构复杂的一类光学薄膜。它的主要功能是分割光谱带。***常见的干涉滤光片是截止滤光片和带通滤光片。截止滤光片可以把所考虑的光谱区分成两部分,一部分不允许光通过(称为截止区),另一部分要求光充分通过(称为带通区)。按照通带在光谱区的位置又可分为长波通和短波通二种,它们简单的结构分别为,这里H、L分别表示厚的高、低折射率层,m为周期数。具有以上结构的膜系称为对称周期膜系。如果所考虑的光谱区很宽或通带透过率的波纹要求很高,膜系结构会更加复杂。

带通滤光片只允许光谱带中的一段通过,而其他部分全部被滤掉,按照它们结构的不同可分为法布里-珀罗型滤光片、多腔滤光片和诱增透滤光片。


光学薄膜的结构与法-珀标准具相同,因为由它获得的透过光谱带都比较窄,所以又叫窄带干涉滤光片。这种滤光片的透过率对薄膜的损耗非常敏感,所以制备透过率很高、半宽度又很窄的滤光片是很困难的。多腔滤光片又叫矩形滤光片,它可以做窄带带通滤光片,又可以做宽带带通滤光片,制备波区较宽,透过率高,波纹小的多腔滤光片同样是困难的。

诱增透滤光片是在金属膜两边匹配以适当的电介质膜系,以增加势透过率,减少反射,使通带透过率增加的一类滤光片。虽然它的通带性能不如全电介质法-珀滤光片,却有着很宽的截止特性,所以还是有很大的应用价值。特别在紫外区,一般电介质材料吸收都比较大的情况下,它的优越性就更明显了。图3的a、b、c分别给出法布里-珀罗型滤光片、多腔滤光片和诱增透滤光片的典型曲线。



多功能镀膜设备及镀膜方法与流程


现在,真空镀膜机是用于外表处理PVD膜层的专用设备,包含真空磁控溅射镀膜机、真空蒸腾镀膜机、真空多弧离子镀膜机等,真空磁控溅射镀膜机可在低温状态下进行非金属资料进行镀膜,真空蒸腾镀膜机和真空多弧离子镀膜机归于高温镀膜,适用于金属资料镀膜。

每种镀膜机都有各自特色和使用范围约束,如需镀制多种不同膜层以及进行金属和非金属资料的镀膜,需求置办上述多种真空镀膜机,存在设备出资大的缺陷。


为了处理上述问题,供给一种多功能镀膜设备及镀膜办法。手套箱蒸镀一体机,本体系由真空镀膜体系和手套箱体系集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体空气下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。首要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等试验研讨与使用。

蒸腾镀膜与手套箱组合,完成蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造,使整个薄膜成长和器材制备进程高度集成在一个完好的可控环境空气的体系中,消除有机大面积电路制备进程中大气环境中不稳定要素影响,保证了高性能、大面积有机光电器材和电路的制备。



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