X射线荧光膜厚仪_荧光光谱仪_膜厚仪

膜厚仪电涡流测量原理

采用电涡流原理的测厚仪，原则上对所有导电体上的非导电体覆层均可测量，荧光光谱膜厚仪，如航天航空器表面、车辆、家电、铝合金门窗及其它铝制品表面的漆，塑料涂层及阳极氧化膜。覆层材料有一定的导电性，通过校准同样也可测量，但要求两者的导电率之比至少相差3-5倍（如铜上镀铬）。虽然钢铁基体亦为导电体，但这类任务还是采用磁性原理测量较为合适。

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涂层测厚仪正常情况下有两种测量原理，X射线荧光膜厚仪，配F合N探头，或者FN一体探头。氧化层一般是几微米到十几微米，但是普通的涂层测厚仪误差比较大，需要用高精度的涂层测厚仪测量氧化层，比如中科朴道的PD-CT2涂层测厚仪就可以测量氧化层。

两者是只是根据材料有细微区别，不过现在使用者很多不了解，膜厚仪，也相互称呼。

膜厚仪的特点

　　1、自动对焦作用。配备激光自动对焦作用，能够准确对焦，提高量测效率。

　　2、具有焦点距离切换作用，荧光测厚仪，适用于有凹凸的机器部件与电路板的底部进行量测

　　3、 膜厚仪 采用检量线法和FP法，两个准直器可自动切换，采用激光自动对焦，并配备有Z轴防冲撞传感器，可防止在对焦时造成的损坏。

　　4、选用Mo靶材X射线管，量测***更灵敏。