微弧氧化技术又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，实质上是一种高压的阳极氧化，是一种新型的金属表面处理技术。微弧氧化电源已获得***发明专利，其特征在于采用多重电网滤波器和变压器隔离的三相平衡供电，利用功率开关元件进行斩波变换，获得脉冲宽度连续可调的大功率正、负脉冲。该工艺是在适当的脉冲电参数和电解液条件下，使阳极表面产生微区等离子弧光放电现象,，阳极上原有的氧化物瞬间熔化,，同时又受电解液冷却作用， 进而在金属表面原位生长出陶瓷质氧化膜的过程。微弧氧化表面处理、微弧氧化、微弧氧化生产线、微弧氧化电源、微弧氧化技术
微弧氧化电解液不含***物质和***元素，电解液（环保型）抗污染能力强和再生重复使用率高，因而对环境污染小，满足环保、清洁生产的需要；微弧氧化表面的陶瓷层比较致密，孔隙率极低，具有很高的耐腐蚀性能，盐雾腐蚀性能提高5-10倍，综合解决了实际应用的困扰问题，为镁合金开发应用提供了技术保障，对“十五”***科技攻关计划具有重大意义，其社会效益和经济效益将十分显著。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO和MgAl2O4尖晶石相组成，总膜厚可达100Lm以上,具有明显的三层结构:外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、铝合金微弧氧化
微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度？
一般来讲，微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层，膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如，一般情况下，铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性，因为从生成物来看，氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁，铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。微弧氧化膜层生长时，首先在基体表面发生化学反应，生成一层阳极氧化膜。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取，如单纯提高膜层的硬度，可能需提高膜层厚度，降低膜基结合力，对膜层整体性能不利。因此，一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整体加以调制，在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如，某镁合金需要耐蚀，可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制，满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。
