ZF500有机蒸发镀膜机
广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度4×10-5Pa，钙钛矿蒸发镀膜机生产厂家，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； ***真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4
真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm
样品台：尺寸为4英寸4平面样品；
有机束源炉：数量：4支，钙钛矿蒸发镀膜机销售，标准型600度控温；
样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）
4套挡板系统：动密封手动控制；
样品挡板（１套），磁力拨叉，
膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
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有机热蒸发镀膜机介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***生产、销售电阻热蒸发镀膜产品，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，急用户之所急，钙钛矿蒸发镀膜机厂家，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，钙钛矿蒸发镀膜机，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创辉煌。
真空：极限真空6*10 -5 帕
工作真空6*10 -4 帕
***工作真空时间：连接手套箱≤10分钟
不连接手套箱，充干燥氮气≤30分钟
本套设备配有8个有机源及2个金属源
金属蒸发源和有机蒸发源可按客户要求配置
膜厚探头及膜厚仪有国产或者进口可选
金属蒸发源配有1000w电源
有机蒸发源配有可控温电源，控温精度±1℃
电阻热蒸发镀膜——“蒸发技术”介绍
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。
蒸发技术分为间歇蒸发与连续蒸发、直接电阻加热蒸发和间接电阻加热蒸发，连续生产与制造厚膜时采用连续蒸发加热。一个入射的蒸气原子在表面的滞留时间中，原子不断地扩散形成不均匀的成核作用，随着蒸气原子不断地冲击表面，各个核都在增长，相邻各核开始接触进入聚结阶段，直到形成连续膜。也可把上述过程划分为小岛阶段、网络阶段、孔阶段及连续膜阶段。
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