




佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑 镀膜为主的***生产厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从膜层特点看,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率,漏率越大,进入炉内的杂气就越多,不管真空度多高,这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度,会***膜层的结合力和膜层颜色的纯度。离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性很好,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
偏压:偏压施加于工件上,在辉光清洗时工件(阴极)与炉体之间产生辉光放电,部分气被电子离化产生离子,离子(带正电)在负偏压作用下受工件吸引轰击清洗工件表面,偏压越大,对工件的轰击净化越干净,但同时工件本身的温升也越大,特别是尖角位棱角位置;在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面的能量,去除表面氧化层和吸附物,达到提高膜层结合力的作用。在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面的能量,去除表面氧化层和吸附物,达到提高膜层结合力的作用。
电子束蒸发源蒸镀法
将蒸发材料放入水冷铜坩锅中,直接利用电子束加热,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。

