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北京赛米莱德贸易有限公司

普通会员8
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
联系卖家:况经理
手机号码:15201255285
公司官网:www.semild.com
企业地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
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企业概况

北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区,毗邻中芯国际,京东方,RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体,LED,TFT-LCD,太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体,太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的**解决方案......

光刻胶供应商-赛米莱德公司-光阻剂光刻胶供应商

产品编号:1438273043                    更新时间:2020-05-04
价格: 来电议定
 北京赛米莱德贸易有限公司

北京赛米莱德贸易有限公司

  • 主营业务:光刻胶
  • 公司官网:www.semild.com
  • 公司地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208

联系人名片:

况经理 15201255285

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产品详情





光刻胶的作用

光刻开始于-种称作光刻胶的感光性液体的应用。 图形能被映射到光刻胶上,然后用一个developer就能做出需 要的模板图案。光刻胶又称光致抗蚀剂,玻璃光刻胶供应商,是以智能

管感光材料,在光的照射与溶解度发生变化。

光刻胶成份

光刻胶通常有三种成分:感光化台物、基体材料和溶剂。在感光化台物中有时还包括增感剂。根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类:负性光刻胶和

正性光刻胶。

1、负性光刻胶

主要有聚酸系(聚酯胶)和环化橡胶系两大类

2、正性光刻胶

主要以重氮醒为感光化台物,以酚醛树脂为基体材料。正胶的主要优点是分辨率高,缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。

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硅片模具加工如何选择光刻胶呢?

注意事项:

①若腐蚀液为碱性,则不宜用正性光刻胶;

②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题

③负性胶价格成本低,正性胶较贵;

④工艺方面:负性胶能很好地获得单根线,而正性胶可获得孤立的洞和槽;

⑤健康方面:负性胶为有机溶液处理,不利于环境;正性胶属于水溶液,对健康、环境无害。

以上内容由赛米莱德为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助!



光刻胶的参数

赛米莱德***生产、销售光刻胶,我们为您分析该产品的以下信息。

分辨率

分辨率英文名:resolution。区别硅片表面相邻图形特征的能力,一般用关键尺寸(CD,Critical Dimension)来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。

对比度

对比度(Contrast)指光刻胶从***区到非***区过渡的陡度。对比度越好,负光阻光刻胶供应商,形成图形的侧壁越陡峭,分辨率越好。

敏感度

敏感度(Sensitivity)光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的能量值(或***量)。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻胶的敏***对于波长更短的深紫外光(DUV)、极深紫外光(EUV)等尤为重要。

粘滞性黏度

粘滞性/黏度(Viscosity)是衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的粘滞性,就有越均匀的光刻胶厚度。光刻胶的比重(SG,Specific Gr***ity)是衡量光刻胶的密度的指标。它与光刻胶中的固体含量有关。较大的比重意味着光刻胶中含有更多的固体,粘滞性更高、流动性更差。粘度的单位:泊(poise),光刻胶供应商,光刻胶一般用厘泊(cps,厘泊为1%泊)来度量。百分泊即厘泊为粘滞率;运动粘滞率定义为:运动粘滞率=粘滞率/比重。 单位:百分斯托克斯(cs)=cps/SG。

粘附性

粘附性(Adherence)表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。光刻胶的粘附性必须经受住后续工艺(刻蚀、离子注入等)。

抗蚀性

抗蚀性(Anti-etching)光刻胶必须保持它的粘附性,在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。

表面张力

液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力(Surface Tension),使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。





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