苏州军拓五金厂_嘉兴抛光研磨加工哪家好

公司主要产品：

研磨光饰机有：振动光饰机（研磨机）、离心光饰机（研磨机）、涡流光饰机（研磨机）、滚筒光饰机（研磨机）等。

抛磨块有：刚玉抛磨块、陶瓷（白刚玉磨块）、高铝瓷研磨石、树脂研磨石（塑模）、钢球、植物类等。

抛光液有：光亮剂、研磨剂、清洗剂、防锈剂、除油剂等。

配套设备有：振动分选筛、热风式烘干机

本公司建立以来，始终以“质量第i一，信誉第i一，交货及时，价格合理”为宗旨，赢取客户的一致好评。面对市场经济挑战，苏州军拓五金厂以一i流的产品，一i流的服务参与市场竞争。

磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，抛光研磨加工哪家好，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。

苏州军拓五金厂是一家专注于研磨抛光设备和研磨抛光材料的公司，公司技术和研发实力雄厚。

CMP

概念CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括：抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。CMP技术的概念是1965年由M***anto首i次提出。该技术***初是用于获取高质量的玻璃表面，如军i用望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

CMP抛光液

CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。

苏州军拓五金厂是一家专注于研磨抛光设备和研磨抛光材料的公司，公司技术和研发实力雄厚。

机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用***的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中***i高的。光学镜片模具常采用这种方法。